法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-06-19
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):F23D5/00 授权公告日:20100203 终止日期:20120430 申请日:20090430
专利权的终止
2010-02-03
授权
授权
机译: 汽相沉积掩模确定方法,汽相沉积掩模制造方法,汽相沉积掩模器件制造方法,汽相沉积掩模选择方法和汽相沉积掩模
机译: 汽相沉积面膜,框架式汽相沉积面膜,汽相沉积面膜制备体,汽相沉积图案形成方法以及有机半导体元素的制备方法
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