公开/公告号CN201383013Y
专利类型
公开/公告日2010-01-13
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;
申请/专利号CN200920106986.5
申请日2009-04-15
分类号G02B3/00(20060101);G02B1/10(20060101);G02B1/02(20060101);G01B11/02(20060101);G01B11/24(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人周国城
地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号
入库时间 2022-08-21 23:07:01
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-06-11
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B3/00 授权公告日:20100113 终止日期:20130415 申请日:20090415
专利权的终止
2010-01-13
授权
授权
机译: 激光片形成装置和晶粒测量装置,用于流动装置的颗粒像速度,激光片形成方式和激光的晶粒测量
机译: 引入激光烧蚀装置的光学窗口的激光束沉积保护部件,激光烧蚀的方法和装置
机译: 共聚焦位移测量装置和共聚焦厚度测量装置