法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-01-11
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01R29/10 授权公告日:20091118 终止日期:20151117 申请日:20081117
专利权的终止
2009-11-18
授权
授权
机译: 真空容器内均匀等离子体形成的等离子体处理装置及等离子体处理方法
机译: 产品的离子等离子体处理-在真空室中使用具有电弧放电的等离子体流,并从等离子体容器的边缘向内引导电场
机译: 具有感应等离子体施加器的真空容器,施加器,具有真空容器的表面处理装置