法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):A61N5/00 授权公告日:20090916 终止日期:20100118 申请日:20081217
专利权的终止
2009-09-16
授权
授权
机译: 电子束绘制装置,电子束绘制方法,电子束绘制程序以及使用直接绘制系统制造半导体装置的方法
机译: 直接电流电子束加速装置及直接电流电子束加速方法
机译: 用于ulsi光刻的直接电子束文件的布置,具有简单的旋转-以及照射图案和电子束的放大调整-直接文件方法