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应用于平板电器的单块溅射靶组件及使用其的溅射装置

摘要

本实用新型包含用于在大面积衬底上沉积材料的单块溅射靶组件。溅射靶组件可以包含在单块结构中的溅射靶和靶托。由于溅射靶和靶托作为单块结构,则不需要粘接。另外,冷却通道可以埋到单块结构中,使得冷却液可以在溅射靶组件中流动,从而不需要在溅射靶组件后面设置分立的冷却组件。

著录项

  • 公开/公告号CN201154985Y

    专利类型

  • 公开/公告日2008-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料股份有限公司;

    申请/专利号CN200720176817.X

  • 申请日2007-09-12

  • 分类号

  • 代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-21 23:00:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-10-31

    专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C14/34 授权公告日:20081126 申请日:20070912

    专利权的终止

  • 2012-02-15

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C14/34 变更前: 变更后: 申请日:20070912

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2008-11-26

    授权

    授权

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