公开/公告号CN201152680Y
专利类型
公开/公告日2008-11-19
原文格式PDF
申请/专利权人 中国电子科技集团公司第四十八研究所;
申请/专利号CN200720065042.9
申请日2007-11-12
分类号
代理机构长沙正奇专利事务所有限责任公司;
代理人马强
地址 410111 湖南省长沙市天心区新开铺路1025号
入库时间 2022-08-21 23:00:44
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-01-19
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):F27B9/02 授权公告日:20081119 终止日期:20091214 申请日:20071112
专利权的终止
2008-11-19
授权
授权
机译: 生产有用的例如碳化硅基陶瓷烧结体。用于制造半导体的方法,包括在惰性气体气氛中烧结粉末体,并在含氮气氛中进行气压烧结
机译: 高温炉,用于在受控气氛中进行热处理和烧结
机译: 受控气氛中用于热处理和烧结的高温炉