法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-10-24
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C04B41/88 授权公告日:20080716 终止日期:20160904 申请日:20070904
专利权的终止
2008-07-16
授权
授权
机译: 干镀层设备,当在真空腔室内以干镀层方法镀铬时,可以通过离子清洁和溅射来提高生产率
机译: 等离子体熔化炉的密封填充方法包括:为发光材料等离子体熔化炉提供开放式真空;提供熔融材料管;将可激发材料置于真空中;通过该管排出真空;密封真空;以及将等离子体注入炉中。炉D和等离子密封的第二种方式。
机译: 陶瓷器皿真空成型设备及其方法