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离子注入机非均匀磁场边缘特性校正器

摘要

本实用新型公开了一种离子注入机非均匀磁场边缘特性校正器,包括:非均匀磁场入口上校正磁极,非均匀磁场入口下校正磁极,非均匀磁场出口下校正磁极,非均匀磁场出口上校正磁极,非均匀磁场上磁极,非均匀磁场下磁极,非均匀磁场上励磁线圈,非均匀磁场磁轭,非均匀磁场下励磁线圈。非均匀磁场的边缘磁场外层,产生另一非均匀磁场,其非均匀分布的规律和原非均匀磁场相反,磁场方向相反,而其边缘磁场特性相近,因此两者叠加后的边缘磁场较原非均匀磁场就有很大的改善,更加接近理想设计的边缘分布。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-02-17

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2007-05-30

    授权

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