具有扩散板的旋转式磁控溅镀装置

摘要

本实用新型是提供一种具有扩散板的旋转式磁控溅镀装置，用于在基板上逐渐形成光学薄膜。此装置包含反应室、阴极管、旋转圆筒、氧离子源和均匀扩散板。此阴极管是对称地分别设置于反应室的两侧。旋转圆筒设置于反应室中，藉着吸引由阴极管所释放出的溅镀原子，使所承载的基板上形成溅镀薄膜。氧离子源提供氧离子。均匀扩散板设置于氧离子源和旋转圆筒之间，使氧离子得以均匀扩散在部分基板的溅镀薄膜之上，藉着氧化溅镀薄膜而形成均匀的光学薄膜。