射頻磁控濺鍍透明導電膜AZO/AgPd/AZO複層薄膜特性之研究

摘要

[[abstract]]本研究採用射頻磁控濺鍍法（RF magnetron sputtering）進行薄膜沉積，將5~8nm的銀鈀薄膜夾層於介電層AZO（ZnO:Al）沉積於康寧玻璃1737F，藉由調變射頻功率（AgPd）與沉積壓力（AZO、AgPd），分析銀鈀夾層對於薄膜的微結構，電性與光性的影響，實驗結果顯示：AgPd沉積功率從50W至350W，電性與光性最佳值在150W。當AZO/AgPd/AZO複層薄膜之外層AZO薄膜較薄時（60nm），中間層AgPd薄膜結晶化程度會主導複層薄膜之電性及光性，AgPd結晶較佳，則有較佳電性及光性。