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应用于平台式扫描仪的透射稿定位装置

摘要

一种应用于平台式扫描仪的透射稿定位装置,包括一定位框架,该定位框架至少包括一定位框,其至少包括一凹槽、一上盖与一卡锁装置,凹槽至少包括一第一开口与开启槽,上盖至少包括一第二开口;透射稿定位装置的上盖能适当地固定于凹槽中,并同时固定透射稿,使用者能将透射稿定位装置放置于一平台式扫描仪的扫描平台上,使平台式扫描仪能借由驱动程序的设定,直接利用预定扫描模式进行扫描;并同时以凹槽的固定深度,将透射稿维持一固定高度。

著录项

  • 公开/公告号CN2444279Y

    专利类型

  • 公开/公告日2001-08-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 鸿友科技股份有限公司;

    申请/专利号CN00254881.X

  • 发明设计人 蔡振财;陈国丰;曹建明;

    申请日2000-09-29

  • 分类号G06K9/20;

  • 代理机构柳沈知识产权律师事务所;

  • 代理人魏晓刚

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区

  • 入库时间 2022-08-21 22:42:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-12-15

    专利权有效期届满 IPC(主分类):G06K9/20 授权公告日:20010822 期满终止日期:20100929 申请日:20000929

    专利权的终止

  • 2007-02-28

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移 变更前: 变更后: 登记生效日:20070126 申请日:20000929

    专利申请权、专利权的转移专利权的转移

  • 2001-08-22

    授权

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