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高氧低温式颅脑损伤治疗装置

摘要

本实用新型提供了一种高氧低温式颅脑损伤治疗装置,它有颅脑罩,颅脑罩扣合在底板上,颅脑罩上分别设置有与其内腔相通的进氧口、进冷口、阀门,颅脑罩上设置有开口。它与现有的氧气、冷气源相接后,能够在本实用新型内形成一个可以随意调节的高氧、低温环境,患者的头部在此环境内,能够对其进行均匀供氧、降温,它操作简便、治疗费用较低。

著录项

  • 公开/公告号CN2404511Y

    专利类型

  • 公开/公告日2000-11-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 王成祥;

    申请/专利号CN99247423.X

  • 发明设计人 王成祥;王勇;

    申请日1999-12-13

  • 分类号A61G10/00;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 250014 山东省济南市文化东路54号公安专科学校法医教研室

  • 入库时间 2022-08-21 22:41:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2005-02-02

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2000-11-08

    授权

    授权

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