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硫族元素超饱和掺杂硅红外探测器及其制作方法

摘要

本发明公开了一种硫族元素超饱和掺杂硅红外探测器及其制造方法,探测器包括p型掺杂硅单晶衬底,金字塔减反射结构分别形成于p型掺杂硅单晶衬底的上、下表面,硫族元素超饱和掺杂硅晶态薄膜形成于p型掺杂硅单晶衬底的上表面的金字塔减反射结构的表面;硅氧化物介质钝化层形成于硫族元素超饱和掺杂硅晶态薄膜的表面;正面接触栅电极形成在硅氧化物介质钝化层的表面;背面接触电极形成在p型掺杂硅单晶衬底的下表面的金字塔减反射结构的表面。本发明在硫族元素超饱和掺杂硅晶态薄膜的制备过程加入了表面减反射结构,这可以增强它的红外吸收。

著录项

  • 公开/公告号CN103762255B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-03-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201410035355.4

  • 申请日2014-01-24

  • 分类号H01L31/0236(20060101);H01L31/0288(20060101);H01L31/0224(20060101);H01L31/0352(20060101);H01L31/09(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人宋焰琴

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 09:36:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-02-09

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L31/0236 授权公告日:20160302 终止日期:20170124 申请日:20140124

    专利权的终止

  • 2016-03-02

    授权

    授权

  • 2014-06-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0236 申请日:20140124

    实质审查的生效

  • 2014-04-30

    公开

    公开

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