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基于多模干涉结构的高功率单纵横模半导体激光器

摘要

一种基于多模干涉结构的高功率单纵横模半导体激光器,在MMI的一侧或两侧制备高反射面可以缩小MMI在输入输出方向上的尺寸,即不需要是自成像距离的整数倍,而可以是自成像距离整数倍的1/n(n为整数)。发明另一方面涉及利用新型的MMI结构制备具有单纵横模输出的高功率激光器;其波导层包括单模和多模波导层。多模波导层中含有有源多模干涉区域(AMMI),即多模有源层。并在输出激光的单模波导层中制备有光栅,可以防止在AMMI发生跳模现象以及线宽因子的增加,因此可以实现单纵横模的稳定输出。

著录项

  • 公开/公告号CN102457018B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-03-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院福建物质结构研究所;

    申请/专利号CN201110242658.X

  • 发明设计人 苏辉;

    申请日2011-08-21

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 350002 福建省福州市杨桥西路155号

  • 入库时间 2022-08-23 09:36:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-03-23

    授权

    授权

  • 2012-06-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01S5/20 申请日:20110821

    实质审查的生效

  • 2012-05-16

    公开

    公开

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