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用于控制抗蚀剂特征中的临界尺寸和粗糙度的方法和系统

摘要

本发明提供一种处理具有初始线粗糙度和初始临界尺寸的光致抗蚀剂凸纹特征(402)的方法。所述方法可包含在第一暴露中以第一角范围和第一剂量率朝向光致抗蚀剂引导离子(404),所述第一剂量率用以将初始线粗糙度减小到第二线粗糙度。所述方法还可包含在第二暴露中以大于第一剂量率的第二离子剂量率朝向光致抗蚀剂凸纹特征引导离子,其中所述第二离子剂量率用以使光致抗蚀剂凸纹特征膨胀。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-02-24

    授权

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  • 2014-04-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/32 申请日:20120426

    实质审查的生效

  • 2014-03-05

    公开

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