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一种偏心自转式气压施力大口径保形抛光装置

摘要

本发明公开了属于超精密光学表面加工领域的一种偏心自转式气压施力大口径保形抛光装置。包括电机、旋转接头、套筒、主轴、活塞、球头、抛光盘、卡圈、非牛顿流体、保形膜;抛光盘采用偏心自转式结构,能够产生具有中心峰值的类高斯去除函数;气体通过旋转接头、中空的主轴,进入主轴末端的气缸,推动活塞对抛光盘施加确定性的压力;非球面的加工过程中,在抛光盘下表面安装的非牛顿流体能够根据当前接触区域的面形实时的变形,保证聚氨酯与非球面表面紧密贴合,产生稳定的去除函数;本发明适用于大口径非球面光学元件的超精密表面加工。

著录项

  • 公开/公告号CN103286659B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-02-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN201310190539.3

  • 申请日2013-05-22

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2022-08-23 09:35:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-14

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B13/00 授权公告日:20160224 终止日期:20160522 申请日:20130522

    专利权的终止

  • 2016-02-24

    授权

    授权

  • 2013-10-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):B24B13/00 申请日:20130522

    实质审查的生效

  • 2013-09-11

    公开

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