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利用全息图和凹形表面测量非球面的装置和方法

摘要

本发明提供了一种用于测量非球面的方法和装置。非球面测量装置包括:产生入射光的干涉仪;具有非球面的测试件,入射光被该测试件反射成测试光;设置在入射光光路上的第一光学元件,至少有一个带有全息图的表面,用于把入射光向测试件衍射;和设置在第一光学元件后面的第二光学元件,把入射光透向非球面,并具有一个凹面,以便减小测试光从非球面反射后进入全息图的入射角。或者,可以用带有全息图和凹面的单光学元件代替单独的第一和第二光学元件。可以利用本装置精确地测量非球面。

著录项

  • 公开/公告号CN1200245C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-05-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN02156997.5

  • 发明设计人 金兑熙;詹姆斯·H·伯奇;

    申请日2002-12-23

  • 分类号G01B9/023;

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人魏晓刚;李晓舒

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-07

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01B 9/023 授权公告日:20050504 终止日期:20171223 申请日:20021223

    专利权的终止

  • 2005-05-04

    授权

    授权

  • 2005-05-04

    授权

    授权

  • 2003-09-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-09-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-07-02

    公开

    公开

  • 2003-07-02

    公开

    公开

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