公开/公告号CN102194665B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-02-03
原文格式PDF
申请/专利权人 周星工程股份有限公司;
申请/专利号CN201110068029.X
申请日2011-03-18
分类号
代理机构兰州中科华西专利代理有限公司;
代理人李艳华
地址 韩国京畿道
入库时间 2022-08-23 09:34:47
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-02-03
授权
授权
2013-04-17
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/00 申请日:20110318
实质审查的生效
2011-09-21
公开
公开
机译: 处理腔室,具有该腔室的半导体制造设备和基板处理方法
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