法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-01-20
授权
授权
2012-09-19
实质审查的生效 IPC(主分类):B08B1/00 申请日:20111215
实质审查的生效
2012-07-11
公开
公开
机译: 用于清洁晶片块的清洁装置,在晶片块的左侧和右侧具有喷嘴单元,其中喷嘴单元具有多个喷嘴头,该多个喷嘴头具有多个喷嘴孔,用于承载清洁液
机译: 1.用清洁装置去除硬表面的过程,该清洁装置由1至60度的第一喷嘴和1至45度的第二喷嘴组成。该装置由喷嘴组成,该喷嘴由零和/或其他燃烧物质组成。 S和/或耐火元素。
机译: 用于清洁装置的喷嘴头,具有围绕喷嘴的纵向轴线可旋转的一组喷嘴环,和另一组喷嘴环,其布置在前一组的两个环之间并且包括具有径向有效方向的喷嘴