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Al2O3陶瓷基底上TiO2纳米管有序阵列的制备

摘要

本发明公开一种Al2O3陶瓷基底上TiO2纳米管有序阵列的制备,该方法包括:(1)使用磁控溅射方法在Al2O3陶瓷片上溅射一层纯钛膜;(2)配置阳极氧化溶液;(3)将溅射有钛膜的Al2O3陶瓷片进行阳极氧化,获得高度有序的TiO2纳米管阵列。该方法克服必须使用钛片或者钛箔制备高度有序纳米管的缺陷,而是使用磁控溅射的方法获得很薄的一层钛膜,并对此进行阳极氧化而获得高度有序的TiO2纳米管阵列。本发明操作简便,反应条件温和,并且磁控溅射方法价格便宜、成膜均匀,可用于大面积制备薄膜,适用于工业化生产。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-03

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25D11/26 授权公告日:20160113 终止日期:20180913 申请日:20120913

    专利权的终止

  • 2016-01-13

    授权

    授权

  • 2013-04-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):C25D11/26 申请日:20120913

    实质审查的生效

  • 2013-01-30

    公开

    公开

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