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含杂环高分子负载金属钯配合物及其在Heck反应中的应用

摘要

本发明公开了一种含杂环高分子负载金属钯配合物及其在Heck反应中的应用,它是由下述原料和步骤制备的:(A)通过普通商品聚丙烯腈为骨架、(B)经咪唑啉或噁唑啉接枝或交联、(C)与金属钯盐反应形成高分子负载金属钯配合物(以下简称为本发明的第一种高分子负载金属钯配合物)。本发明在Heck反应的应用中催化效率高、合成原料易得、反应操作简单,且可多次重复使用,又不含膦、无污染、环保型。

著录项

  • 公开/公告号CN1200008C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-05-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 郑州大学;

    申请/专利号CN02139082.7

  • 申请日2002-09-20

  • 分类号C08F4/80;C08F4/02;C08F255/00;

  • 代理机构郑州科维专利代理有限公司;

  • 代理人张凤姣

  • 地址 450052 河南省郑州市大学路75号

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2007-11-28

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2005-05-04

    授权

    授权

  • 2003-03-12

    公开

    公开

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