具有多重注射道的原子层沉积腔室

摘要

本发明的实施方式涉及在原子层沉积工艺期间在基板上沉积材料的设备和方法。在一种实施方式中，腔室盖组件包含：通道，所述通道具有上部和，其中所述通道沿着中心轴延伸；壳体，所述壳体具有内部区域并至少部分界定两个或更多个环状通道的壳体；插入件，所述插入件设置在所述内部区域中并界定所述上部，所述上部流通地耦接所述两个或更多个环状通道；以及锥形底部表面，从通道的底部延伸至腔室盖组件的周围部分。