公开/公告号CN102534549B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-11-25
原文格式PDF
申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;
申请/专利号CN201110457396.9
申请日2011-12-27
分类号
代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:31:12
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-11-25
授权
授权
2013-07-31
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/40 申请日:20111227
实质审查的生效
2012-07-04
公开
公开
机译: 成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法
机译: 成膜材料,光刻技术,成膜材料,光学成分形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,抗蚀剂永久膜,放射线敏感性组合物,非晶膜制造方法,光刻法成膜下层膜形成成分,光刻层膜生产方法和电路图形形成方法
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