法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
1999-07-28
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
1995-05-24
授权
授权
1991-12-18
公开
公开
1991-08-07
实质审查请求已生效的专利申请
实质审查请求已生效的专利申请
机译: 等离子转移弧(PTA)沉积技术获得的金属间化合物增强的底涂层n u00ecquel的开发工艺,可保护暴露于渗碳和金属腐蚀的设备
机译: 发明背景由沉积技术获得的基于镍的镍涂层的开发方法用于转移弧等离子(PTA)保护设备的渗碳和金属腐蚀现象
机译: 一种基于辉光放电等离子体化学气相沉积技术,利用CR和NI的金属有机前驱体生产CRN和NI的NI涂层和复合涂层