公开/公告号CN1176370C
专利类型发明授权
公开/公告日2004-11-17
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院上海光学精密机械研究所;
申请/专利号CN02155046.8
申请日2002-12-20
分类号G01N23/223;
代理机构上海新天专利代理有限公司;
代理人张泽纯
地址 201800 上海市800-211邮政信箱
入库时间 2022-08-23 08:57:11
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N 23/223 授权公告日:20041117 终止日期:20100120 申请日:20021220
专利权的终止
2004-11-17
授权
授权
2003-08-20
实质审查的生效
实质审查的生效
2003-06-04
公开
公开
机译: X射线荧光全息照相设备,X射线荧光全息照相及局部结构分析方法
机译: X射线荧光全息照相设备
机译: 层析成像方法进行3D全息折光术