法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-11-23
专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C01G33/00 变更前: 变更后: 申请日:20100723
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
2015-10-14
授权
授权
2013-01-09
实质审查的生效 IPC(主分类):C01G33/00 申请日:20100723
实质审查的生效
2011-11-16
公开
公开
机译: 膜形成装置,膜形成方法,绝缘膜,电介质膜,压电膜,强电介质膜,压电元件和液体喷射装置
机译: 电介质膜的制造方法和金属绝缘体的制造方法具有该电介质膜的金属电容器和用于制造该电介质膜的间歇式原子层沉积装置
机译: 形成电介质膜的组合物,制造电介质膜的组合物的方法,电介质膜和包括电介质膜的电容器