法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-09-16
授权
授权
2013-08-14
著录事项变更 IPC(主分类):H01L 21/68 变更前: 变更后: 申请日:20120716
著录事项变更
2013-05-29
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/68 申请日:20120716
实质审查的生效
2012-11-28
公开
公开
机译: 3D校准机构,用于光学成像系统的空间校准的校准方法,用于校准光学成像系统的校准元件和校准方法
机译: 用于相对于用于制造太阳能电池的基板对屏幕设备进行校准的设备,用于在用于制造太阳能电池的基板上对材料进行沉积的系统以及用于对涉及该屏幕设备的基板进行校准的方法用于制造太阳能电池的基质
机译: 用于相对于用于制造太阳能电池的基板对屏幕设备进行校准的设备,用于在用于制造太阳能电池的基板上对材料进行沉积的系统以及用于对涉及该屏幕设备的基板进行校准的方法用于制造太阳能电池的基质