使用超临界二氧化碳法从衬底上去除光刻胶及残渣

摘要

一种从衬底上去除光刻胶和残渣的方法，它起始于保持超临界二氧化碳、胺和溶剂与所述衬底接触，使得所述胺和溶剂至少部分溶解光刻胶和残渣。优选地，所述胺是叔胺。优选地，所述溶剂选自DMSO、EC、NMP、乙酰基丙酮、BLO、醋酸、DMAC、PC和它们的混合物。然后，把光刻胶和残渣从衬底附近去除。优选地，该方法继续冲洗步骤，其中，衬底在超临界二氧化碳和冲洗剂中冲洗。优选地，冲洗剂选自水、醇、二者的混合物以及丙酮。在一种供选择的实施方案中，胺和溶剂用含水氟化物代替。