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用于通过物理汽相沉积和化学汽相沉积同时沉积的设备及其方法

摘要

一种利用两种不同的真空沉积工艺把至少两种不同层的薄膜材料真空沉积到基底上的设备和方法。还公开了一种新颖的直线式涂敷器,该涂敷器应用微波强化的CVD把薄膜材料均匀地沉积在整个加长的基底上。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-04-09

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/00 授权公告日:20040804 终止日期:20130215 申请日:20000215

    专利权的终止

  • 2004-08-04

    授权

    授权

  • 2002-05-15

    公开

    公开

  • 2002-05-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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