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边缘渐进阻抗加载薄膜及边缘渐进阻抗加载结构

摘要

边缘渐进阻抗加载结构及制备方法,属于电子材料技术领域。本发明在阻抗膜上设置有渐进的周期性方形铝箔贴片和与其互补的渐进周期性孔单元,渐进方形铝箔单元和孔单元边长分别为a=8mm,b=5mm,c=2mm,单元间距即周期为L=10mm。本发明在频率、极化方式和方位角变化时能够取得很好的边缘散射抑制。

著录项

  • 公开/公告号CN102570047B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-07-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201110416778.7

  • 发明设计人 邓龙江;陈海燕;谢建良;

    申请日2011-12-14

  • 分类号H01Q15/00(20060101);

  • 代理机构51215 成都惠迪专利事务所(普通合伙);

  • 代理人刘勋

  • 地址 610000 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 09:27:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-07-01

    授权

    授权

  • 2014-01-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01Q 15/00 申请日:20111214

    实质审查的生效

  • 2012-07-11

    公开

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