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由一维纳米线阵列结构温差电材料制造的微温差电池

摘要

本发明公开了一种由一维纳米线阵列结构温差电材料制造的微温差电池。微温差电池外形为薄片体,其厚度控制在20μm~3mm的范围。微温差电池主体由上、下两块板构成,具有层状结构,总体结构顺序为C层→B层→A层→B层→C层。上板由C层和B层两个材料层组成,下板依次由C层、B层和A层三个材料层组成。其特征在于:A层为一维纳米线阵列结构温差电材料层,由大量P型节和N型节纳米线阵列温差电材料组成,A层厚度在5μm~500μm的范围,B层为导电材料层,C层为封装导热绝缘材料层。本发明的微温差电池体积小,厚度薄,特别适用于高、精、尖技术领域中的微型装置系统。

著录项

  • 公开/公告号CN1167141C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2004-09-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津大学;

    申请/专利号CN01140414.0

  • 发明设计人 王为;张建中;陈岩;郭鹤桐;

    申请日2001-12-06

  • 分类号H01L35/28;H01L35/32;

  • 代理机构12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所;

  • 代理人任延

  • 地址 300072 天津市南开区卫津路92号

  • 入库时间 2022-08-23 08:56:59

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-02-06

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2004-09-15

    授权

    授权

  • 2002-09-04

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2002-06-05

    公开

    公开

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