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制造纳米压印模具的方法、利用由此制造的纳米压印模具制造发光二极管的方法以及由此制造的发光二极管

摘要

本发明涉及制造纳米压印模具的方法、使用该纳米压印模具的发光二极管以及制造发光二极管的方法。本发明的制造发光二极管的方法包括:在临时基板上形成n型氮化物半导体层、发光层和p型氮化物半导体层的步骤;在p型氮化物半导体层上形成p型电极的步骤;在p型电极上形成导电基板的步骤;通过去除临时基板而露出n型氮化物半导体层的步骤;在n型氮化物半导体层上形成纳米压印抗蚀剂层的步骤;通过将纳米压印模具按压在纳米压印抗蚀剂层上来将纳米图案转印到纳米压印抗蚀剂层上的步骤;将纳米压印模具与具有纳米图案的纳米压印抗蚀剂层分离开的步骤;以及通过刻蚀具有纳米图案的纳米压印抗蚀剂层的一部分来形成n型电极的步骤。本发明得到了一种制造可以有效地并经济地形成用于增强发光二极管的光提取效率的纳米压印模具的方法、制造发光二极管的方法以及利用纳米压印模具的发光二极管。

著录项

  • 公开/公告号CN103038038B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-05-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浦项工科大学校产学协力团;

    申请/专利号CN201180037163.1

  • 发明设计人 李钟览;孙俊豪;宋阳熙;

    申请日2011-10-28

  • 分类号

  • 代理机构北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人吕俊刚

  • 地址 韩国庆尚北道

  • 入库时间 2022-08-23 09:26:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-10-16

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B29C 33/38 授权公告日:20150513 终止日期:20171028 申请日:20111028

    专利权的终止

  • 2015-05-13

    授权

    授权

  • 2015-05-13

    授权

    授权

  • 2013-05-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):B29C33/38 申请日:20111028

    实质审查的生效

  • 2013-05-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):B29C 33/38 申请日:20111028

    实质审查的生效

  • 2013-04-10

    公开

    公开

  • 2013-04-10

    公开

    公开

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