公开/公告号CN102867779B
专利类型发明专利
公开/公告日2015-05-20
原文格式PDF
申请/专利权人 上海华力微电子有限公司;
申请/专利号CN201210343527.5
申请日2012-09-17
分类号
代理机构上海申新律师事务所;
代理人竺路玲
地址 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
入库时间 2022-08-23 09:25:56
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-05-20
授权
授权
2013-02-20
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20120917
实质审查的生效
2013-01-09
公开
公开
机译: 制造光罩的方法,光罩形状形状评估装置,判定光罩缺陷的校正部分,光罩缺陷校正的部分的判定装置以及半导体装置的制造方法
机译: 修复光罩缺陷的方法,能够轻松地修复缺陷并减少被拒绝的光罩的数目
机译: 用于校正光罩缺陷的方法,装置和头,用于检测光罩缺陷的装置以及制造光罩的方法