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曝光装置、曝光管理系统、和曝光方法

摘要

根据实施方式,提供包括取得部和计算部的曝光装置。取得部取得多个测量值。多个测量值是对于多个焦点偏移量测量的值。多个焦点偏移量彼此不同。多个测量值分别表示拍摄区域内的位置偏移分布。计算部从多个测量值求多个失真误差。计算部按照多个焦点偏移量及多个失真误差,求相关关系。相关关系是焦点偏移量和用于修正失真误差的位置对准修正值的相关关系。

著录项

  • 公开/公告号CN103293868B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-05-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社东芝;

    申请/专利号CN201210320610.0

  • 发明设计人 石行一贵;

    申请日2012-08-31

  • 分类号

  • 代理机构北京市中咨律师事务所;

  • 代理人陈海红

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:25:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-22

    专利权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20170802 变更前: 变更后: 申请日:20120831

    专利申请权、专利权的转移

  • 2015-05-13

    授权

    授权

  • 2015-05-13

    授权

    授权

  • 2013-10-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20120831

    实质审查的生效

  • 2013-10-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20120831

    实质审查的生效

  • 2013-09-11

    公开

    公开

  • 2013-09-11

    公开

    公开

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