法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-03-18
授权
授权
2013-08-07
实质审查的生效 IPC(主分类):C08F 220/34 申请日:20130319
实质审查的生效
2013-07-10
公开
公开
机译: 包含乙烯基的过渡金属配位化合物及其制备方法,以及使用过渡金属配位化合物制备过渡金属分子印迹聚合物的方法
机译: 四齿配位体,四齿配位体的前体,四齿双(N-杂环卡宾)亚烷基配体,含有四齿配位体的Motohai铂(II)配位化合物,其制备方法以及已使用的这些材料有机发光二极管
机译: 黄曲霉毒素的模板,黄曲霉毒素POLIM u00c9RICO中间体模板的化合物的合成方法,分子印迹聚合物,分子印迹分子印迹聚合物的制备方法以及黄曲霉毒素的secuestraci u00d3n方法