法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-01-28
授权
授权
2012-06-27
实质审查的生效 IPC(主分类):G01J 3/28 申请日:20090529
实质审查的生效
2012-05-09
公开
公开
机译: 参考装置,光谱干涉型测定装置,涂布装置,用于确保光谱干涉型测定装置的测定精度的方法,以及涂膜的制造方法。
机译: 辐射光谱测定装置,辐射光谱测定装置,放射线污染点测定方法相同,放射线净化/分离方法相同
机译: 光谱测定装置,检测装置以及光谱测定装置的制造方法