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疏水化处理装置、疏水化处理方法以及存储介质

摘要

本发明提供一种药液的气化效率高、且能向基板供给高浓度的疏水化气体、还能抑制药液发生变质的疏水化处理装置、疏水化处理方法以及存储介质。疏水化处理装置包括:气化面形成部,其表面位于气化室内;气化面加热部件,其用于加热该气化面形成部;药液供给口,其用于将疏水化处理用的药液供给到上述气化面形成部的表面上;气体导入口,其用于将载气导入上述气化室内;引出口,其用于引出疏水化气体;处理容器,其用于将自上述引出口供给的疏水化气体供给到基板上。利用该结构能够将高浓度的疏水化气体供给到基板上,且由于在不进行处理时所贮存的药液不会与载气接触,因此能够抑制药液变质。

著录项

  • 公开/公告号CN101996859B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-01-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN201010262548.5

  • 发明设计人 新村聪;福冈哲夫;北野高广;

    申请日2010-08-24

  • 分类号

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2022-08-23 09:23:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-01-21

    授权

    授权

  • 2012-04-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/00 申请日:20100824

    实质审查的生效

  • 2011-03-30

    公开

    公开

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