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陶瓷材料、半导体制造装置用构件、溅射靶材及陶瓷材料的制造方法

摘要

本发明的陶瓷材料,是以镁、铝、氧及氮为主成分的陶瓷材料,主相为氧化镁中固溶了氮化铝的MgO-AlN固溶体的晶相。MgO-AlN固溶体,优选使用CuKα线时的(200)面及(220)面的XRD波峰出现在氧化镁的立方晶波峰与氮化铝的立方晶波峰之间的2θ=42.9~44.8°,62.3~65.2°,更优选(111)面的XRD波峰出现在氧化镁的立方晶波峰与氮化铝的立方晶波峰之间的2θ=36.9~39°。

著录项

  • 公开/公告号CN102639463B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-11-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日本碍子株式会社;

    申请/专利号CN201180004701.7

  • 申请日2011-10-11

  • 分类号C04B35/581(20060101);C04B35/04(20060101);H01L21/3065(20060101);H01L21/31(20060101);

  • 代理机构31210 上海市华诚律师事务所;

  • 代理人徐申民;李晓

  • 地址 日本国爱知县

  • 入库时间 2022-08-23 09:22:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-11-12

    授权

    授权

  • 2013-10-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 35/581 申请日:20111011

    实质审查的生效

  • 2012-08-15

    公开

    公开

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