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用于离子注入器的离子源和在离子注入器产生离子的方法

摘要

包含在本发明中的离子源(12)是用于离子注入器中。离子源(12)包括一个气体密封室(18),该密封室具有限定了一个气体电离区域(120)的导电室壁(112,114,116)。气体密封室(18)设有一个使离子射出室外的出口孔(126)。支架(15)固定与装置(13)相对的气体密封室(18),装置(13)使射出气体密封室的离子形成离子束。电离材料的供给源把材料送到气体密封室(18)中。固定在支架上的天线(130)具有金属射频导电部(132),该导电部直接安装在气体密封室(18)中,给气体电离区域(120)提供电离的能量。

著录项

  • 公开/公告号CN1166263C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2004-09-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 艾克塞利斯技术公司;

    申请/专利号CN97114806.6

  • 申请日1997-05-30

  • 分类号H05H1/24;H01J27/16;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人黄力行

  • 地址 美国马萨诸塞州

  • 入库时间 2022-08-23 08:56:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-08-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05H 1/24 授权公告日:20040908 申请日:19970530

    专利权的终止

  • 2010-08-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05H 1/24 授权公告日:20040908 申请日:19970530

    专利权的终止

  • 2004-09-08

    授权

    授权

  • 2004-09-08

    授权

    授权

  • 2001-02-28

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19970530

    著录项目变更

  • 2001-02-28

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19970530

    著录项目变更

  • 2001-02-28

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19970530

    著录项目变更

  • 1999-08-25

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1999-08-25

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1998-02-11

    公开

    公开

  • 1998-02-11

    公开

    公开

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