首页> 中国专利> 具有用于减小像差的可替换、可操纵的校正布置的光学系统

具有用于减小像差的可替换、可操纵的校正布置的光学系统

摘要

本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备,包括用于减小像差的至少一个操纵器(14),其中操纵器(14)包括至少一个光学元件(8),该至少一个光学元件(8)由至少一个驱动器(13)操纵,并且其中该操纵器(14)连同驱动器(13)一起以可替换的方式形成。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-09-17

    授权

    授权

  • 2010-02-03

    实质审查的生效

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  • 2009-09-30

    公开

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