法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-07-16
授权
授权
2012-09-05
实质审查的生效 IPC(主分类):G02F 1/1334 申请日:20101231
实质审查的生效
2012-07-04
公开
公开
机译: 一种薄膜,具有薄膜的暴露的主板,一种用于制造半导体器件的方法,用于制造液晶显示面板的方法,一种用于再生曝光的主板的方法,以及用于减少剥离残留物的方法
机译: 薄膜半导体器件,薄膜半导体器件制造方法,液晶显示器件,液晶显示器件制造方法,电子器件,电子器件制造方法以及薄膜半导体器件,液晶显示器,液晶显示器的制造工艺,电子设备。电子设备的制造工艺和薄膜沉积工艺)
机译: 薄膜半导体器件,薄膜半导体器件的制造方法,液晶显示器件,液晶显示器件的制造方法,电子器件,电子器件的制造方法和薄膜沉积方法