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离子束注入机的离子剂量测定装置和方法

摘要

离子注入机包括剂量控制装置,用来测量并控制加在置于该机注入站内的工件上的离子束剂量,它允许校正函数的直接计算,后者包括至少一个K值的校正因数。剂量控制电路利用K值将由设在注入站内的法拉第筒测得的离子束电流If转变为有效的离子束电流IT。K值是从测得的离子束电流If[I+]和注入站内的压力P之间的关系得出的。在生产流程中,剂量控制电子机构(20)选用合适的K值确定有效离子束电流IT,从而利用该有效值准确地控制离子束剂量。

著录项

  • 公开/公告号CN1139108C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2004-02-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 艾克塞利斯技术公司;

    申请/专利号CN99108452.7

  • 发明设计人 A·M·哈林;W·A·克鲁尔;

    申请日1999-06-11

  • 分类号H01L21/425;H01L21/66;

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人周备麟;林长安

  • 地址 美国马萨诸塞州

  • 入库时间 2022-08-23 08:56:39

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-31

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/425 授权公告日:20040218 终止日期:20180611 申请日:19990611

    专利权的终止

  • 2004-02-18

    授权

    授权

  • 2004-02-18

    授权

    授权

  • 2004-02-18

    授权

    授权

  • 2001-09-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2001-09-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2001-09-05

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2001-02-14

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19990611

    著录项目变更

  • 2001-02-14

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19990611

    著录项目变更

  • 2001-02-14

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19990611

    著录项目变更

  • 2001-02-14

    著录项目变更 变更前: 变更后: 申请日:19990611

    著录项目变更

  • 2000-03-22

    公开

    公开

  • 2000-03-22

    公开

    公开

  • 2000-03-22

    公开

    公开

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