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氨基酸产生剂和含有氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物

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本发明的目的在于提供一种其氨基的保护基团脱去后会生成氨基酸的氨基酸产生剂，以及使用该氨基酸产生剂和含有该氨基酸产生剂的聚硅氧烷组合物的用于形成被膜的组合物。本发明提供了含有(A)成分、(B)成分和(C)成分的用于形成被膜的组合物。其中(A)成分是下述式(1)所示的氨基的保护基团脱去后会生成氨基酸的氨基酸产生剂，(B)成分是水解性硅烷、其水解物、其水解缩合物、或它们的混合物，(C)成分是溶剂。D-A 式(1)(式中，D表示氨基的保护基团，A表示氨基酸去掉氨基的氢原子后所得的有机基团。)

著录项

公开/公告号CN102037092B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-07-02

原文格式PDF
申请/专利权人日产化学工业株式会社;
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申请/专利号CN200980118183.4
发明设计人加藤拓;小林淳平;高野聪子;作本直树;
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申请日2009-05-19
分类号
代理机构北京市中咨律师事务所;
代理人段承恩
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:20:00

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-07-02

授权

授权
2011-06-15

实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 3/00 申请日:20090519

实质审查的生效
2011-04-27

公开

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