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用于硫属化物光伏应用的低熔点溅射靶及其制造方法

摘要

在本发明一个示例性的实施方式中,描述了一种用于沉积半导体性硫属元素化物膜的溅射靶结构。所述溅射靶包括:靶体,其具有包含Cu1-x(Se1-y-zSyTez)x的靶体组合物,其中:x值大于或等于约0.5;y值在约0到约1之间;z值在约0到约1之间;并且所述靶体组合物中Se、S和Te相的总量小于所述靶体组合物的50体积%。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-07-16

    授权

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  • 2013-01-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20101124

    实质审查的生效

  • 2012-08-08

    公开

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