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半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统

摘要

描述了半导体制造设备批次控制的背景条件偏差估计方法和系统。在一个实施例中,识别与过程相关的背景条件。过程具有一个或多个线程,每个线程包括一个或多个背景条件。定义输入输出方程组。每个输入输出方程对应于一线程并且包括线程偏差,所述线程偏差表示为单独背景条件偏差的总和。使用输入输出方程组来建立状态-空间模型,所述状态空间模型描述过程的发展。状态空间模型可以估计单独背景条件偏差。

著录项

  • 公开/公告号CN102301448B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-07-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201080006153.7

  • 发明设计人 邹建平;

    申请日2010-01-28

  • 分类号G05B19/418(20060101);

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G05B 19/418 授权公告日:20140702 终止日期:20160128 申请日:20100128

    专利权的终止

  • 2014-07-02

    授权

    授权

  • 2012-02-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20100128

    实质审查的生效

  • 2011-12-28

    公开

    公开

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