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一种简化侧墙定义的两次图形曝光工艺的方法

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摘要

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种简化侧墙定义的两次图形曝光工艺的方法。通过减少传统侧墙定义的两次图形曝光中的曝光工艺，简化了工艺流程，相应的降低了工艺的成本，并提高了器件的良率。

1. 一种简化侧墙定义的两次图形曝光工艺的方法 [P] . 中国专利： CN102437049B . 2014.06.04
2. 一种缩小侧墙定义的两次图形曝光工艺中最小线宽的方法 [P] . 中国专利： CN102446748A . 2012-05-09
3. Method to define multiple layer patterns using double exposures [P] . 美国专利： US10007177B2 . 2018-06-26

机译：使用两次曝光定义多层图案的方法
4. Electric appliance e.g. glass-ceramic hob, operating method, involves activating defined operating function by twice or repeated consecutive contact of operating surface at or over contact switches within certain time or frequency [P] . 德国专利： DE102005004066A1 . 2006-07-27

机译：电器例如玻璃陶瓷炉灶，一种操作方法，涉及通过在一定的时间或频率内两次或重复连续接触操作表面在接触开关处或上方的接触开关来激活定义的操作功能
5. A method for the production of gate electrodes of a semiconductor component, which by means of a hard mask and a double exposure in connection with a size reduction in distance holder are produced [P] . 德国专利： DE102010040066B4 . 2012-05-24

机译：一种用于制造半导体元件的栅电极的方法，该方法借助于硬掩模和与距离保持器的尺寸减小相关的两次曝光来制造