公开/公告号CN102449526B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-05-07
原文格式PDF
申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;
申请/专利号CN201080023767.6
申请日2010-03-11
分类号
代理机构北京市柳沈律师事务所;
代理人邱军
地址 德国上科亨
入库时间 2022-08-23 09:18:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-05-07
授权
授权
2012-06-27
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 17/06 申请日:20100311
实质审查的生效
2012-05-09
公开
公开
机译: 成像光学系统,具有这种光学系统的用于微光刻的投射照明单元,具有这种投射照明单元的微结构部件的制造方法,通过该制造方法制造的微结构部件以及这种光学系统的用途
机译: 成像光学系统,包括这种类型的成像光学系统的微光刻照相术的投影安装以及用于制造具有这种类型的投影曝光体的微结构部件的方法
机译: 成像光学系统,包括这种类型的成像光学系统的微光刻照相术的投影安装以及用于制造具有这种类型的投影曝光体的微结构部件的方法