首页> 中国专利> 一种用于镀膜行星系统中控制平面光学元件膜厚分布的挡板设计方法

一种用于镀膜行星系统中控制平面光学元件膜厚分布的挡板设计方法

摘要

一种用于镀膜行星系统中控制平面光学元件膜厚分布的挡板设计方法,真空镀膜过程中,膜料以蒸发或溅射方式在真空环境中传输,并在平面光学元件表面上形成厚度非均匀分布的薄膜。分别建立了能真实反映未使用挡板和使用挡板修正时真空镀膜机行星系统中沉积到平面光学元件上的薄膜厚度分布模型。根据未使用挡板时的薄膜厚度分布模型确定真空镀膜过程中薄膜材料的蒸发或溅射特性,在此基础上运用存在挡板修正时的薄膜厚度分布模型理论模拟真空镀膜机行星系统中平面光学元件上的薄膜厚度分布。通过计算机优化挡板设计直至真空镀膜机行星系统中挡板修正后平面光学元件上薄膜厚度分布达到设计需求,获得最优的挡板设计。本发明能实现平面光学元件上薄膜厚度分布的精确控制。

著录项

  • 公开/公告号CN102776484B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-03-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN201210214689.9

  • 发明设计人 李斌成;郭春;孔明东;柳存定;

    申请日2012-06-27

  • 分类号C23C14/54(20060101);

  • 代理机构11251 北京科迪生专利代理有限责任公司;

  • 代理人成金玉;贾玉忠

  • 地址 610209 四川省成都市双流350信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:18:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-03-26

    授权

    授权

  • 2013-01-02

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/54 申请日:20120627

    实质审查的生效

  • 2012-11-14

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号