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光谱纯度滤光片、光刻设备以及用于制造光谱纯度滤光片的方法

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摘要

一种透射光谱纯度滤光片(100)，配置成透射极紫外辐射。光谱纯度滤光片(102F)包括滤光片部分(100)，所述滤光片部分(100)具有配置成透射极紫外辐射并抑制第二类型辐射的透射的多个孔(104)。每个孔(104)通过各向异性蚀刻工艺制造。

公开/公告号CN102165372B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-01-22

原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;皇家飞利浦电子股份有限公司;
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申请/专利号CN200980137614.1
发明设计人 W·A·索尔;A·M·雅库尼恩;M·J·J·杰克;D·马修;H·J·凯特拉里基;F·C·范登荷尤维尔;P·E·M·库基皮尔斯;
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申请日2009-08-26
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 09:17:44

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2017-10-17

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20140122 终止日期:20160826 申请日:20090826

专利权的终止
2014-01-22

授权

授权
2014-01-22

授权

授权
2011-11-02

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20090826

实质审查的生效
2011-11-02

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20090826

实质审查的生效
2011-08-24

公开

公开
2011-08-24

公开

公开

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1. 光谱纯度滤光片、光刻设备、制造光谱纯度滤光片的方法和使用光刻设备制造器件的方法 [P] . 中国专利： CN102792228A . 2012-11-21
2. 光谱纯度滤光片、光刻设备和用于制造光谱纯度滤光片的方法 [P] . 中国专利： CN102472975A . 2012-05-23
3. The spectral purity filters, lithographic apparatus, method of manufacturing a spectral purity filter, a device manufacturing method and a lithographic apparatus using [P] . 日本专利： JP2013509693A . 2013-03-14

机译：光谱纯度滤光片，光刻设备，制造光谱纯度滤光片的方法，器件制造方法和使用该光刻设备的光刻设备
4. SPECTRAL PURITY FILTER, LITHOGRAPHY DEVICE EQUIPPED WITH SUCH SPECTRAL PURITY FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE AND DEVICE MANUFACTURED BY SUCH DEVICE MANUFACTURING METHOD [P] . 日本专利： JP2006191090A . 2006-07-20

机译：光谱纯度滤光片，配备有这种光谱纯度滤光片的光刻设备，制造装置的方法以及通过这种装置制造方法制造的装置
5. MULTILAYER SPECTRAL PURITY FILTER, LITHOGRAPHIC APPARATUS PROVIDED WITH SUCH SPECTRAL PURITY FILTER, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURED THEREBY [P] . 日本专利： JP2011049584A . 2011-03-10

机译：多层光谱纯度滤光片，具有这种光谱纯度滤光片的光刻设备，制造装置的方法以及由此制造的装置