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光谱纯度滤光片、光刻设备和用于制造光谱纯度滤光片的方法

摘要

一种透射型光谱纯度滤光片,配置成透射极紫外辐射,且包括具有多个孔的滤光片部分,所述孔用于透射极紫外辐射和抑制第二类型的辐射的透射。所述孔可以通过各向异性蚀刻过程在诸如硅等半导体材料中制造。半导体材料设置有耐氢层,诸如氮硅化合物Si3N4、二氧化硅SiO2或碳化硅SiC。粗糙度特征可以在孔的侧壁中被扩大。滤光片部分的厚度可以小于约20μm,孔的宽度为约2μm至约4μm。

著录项

  • 公开/公告号CN102472975A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2012-05-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201080029678.2

  • 申请日2010-05-11

  • 分类号G03F7/20(20060101);G21K1/06(20060101);H05G2/00(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人吴敬莲

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-12-18 05:25:47

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-22

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/20 申请公布日:20120523 申请日:20100511

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2012-08-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20100511

    实质审查的生效

  • 2012-05-23

    公开

    公开

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